南大光電12月17日晚間公告稱，公司控股子公司寧波南大光電自主研發(fā)的ArF光刻膠產(chǎn)品近日成功通過(guò)客戶的使用認(rèn)證。“ArF光刻膠產(chǎn)品開(kāi)發(fā)和產(chǎn)業(yè)化”是寧波南大光電承接國(guó)家“02專項(xiàng)”的一個(gè)重點(diǎn)攻關(guān)項(xiàng)目。本次產(chǎn)品的認(rèn)證通過(guò)，標(biāo)志著“ArF

光刻膠產(chǎn)品開(kāi)發(fā)和產(chǎn)業(yè)化”項(xiàng)目取得了關(guān)鍵性的突破，成為國(guó)內(nèi)通過(guò)產(chǎn)品驗(yàn)證的第一只國(guó)產(chǎn)ArF光刻膠，為全面完成項(xiàng)目目標(biāo)奠定了堅(jiān)實(shí)的基礎(chǔ)。

南大光電表示，ArF光刻膠材料是集成電路制造領(lǐng)域的重要關(guān)鍵材料，可以用于 90nm-14nm

甚至7nm技術(shù)節(jié)點(diǎn)的集成電路制造工藝。廣泛應(yīng)用于高端芯片制造（如邏輯芯片、 AI 芯片、5G

芯片、大容量存儲(chǔ)器和云計(jì)算芯片等）。ArF光刻膠的市場(chǎng)前景好于預(yù)期。隨著國(guó)內(nèi)IC行業(yè)的快速發(fā)展，自主創(chuàng)新和國(guó)產(chǎn)化步伐的加快，以及先進(jìn)制程工藝的應(yīng)用，將大大拉動(dòng)光刻膠的用量。

南大光電稱，本次通過(guò)客戶認(rèn)證的產(chǎn)業(yè)化意義大。本次驗(yàn)證使用的50nm閃存技術(shù)平臺(tái)，在特征尺寸上，線制程工藝可以滿足45nm-90nm光刻需求，孔制程工藝可滿足65nm-90nm光刻需求，該工藝平臺(tái)的光刻膠在業(yè)界有代表性。