南大光電12月17日晚間公告稱，公司控股子公司寧波南大光電自主研發的ArF光刻膠產品近日成功通過客戶的使用認證。“ArF光刻膠產品開發和產業化”是寧波南大光電承接國家“02專項”的一個重點攻關項目。本次產品的認證通過，標志著“ArF

光刻膠產品開發和產業化”項目取得了關鍵性的突破，成為國內通過產品驗證的第一只國產ArF光刻膠，為全面完成項目目標奠定了堅實的基礎。

南大光電表示，ArF光刻膠材料是集成電路制造領域的重要關鍵材料，可以用于 90nm-14nm

甚至7nm技術節點的集成電路制造工藝。廣泛應用于高端芯片制造（如邏輯芯片、 AI 芯片、5G

芯片、大容量存儲器和云計算芯片等）。ArF光刻膠的市場前景好于預期。隨著國內IC行業的快速發展，自主創新和國產化步伐的加快，以及先進制程工藝的應用，將大大拉動光刻膠的用量。

南大光電稱，本次通過客戶認證的產業化意義大。本次驗證使用的50nm閃存技術平臺，在特征尺寸上，線制程工藝可以滿足45nm-90nm光刻需求，孔制程工藝可滿足65nm-90nm光刻需求，該工藝平臺的光刻膠在業界有代表性。